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真空爐

真空爐

簡要描述:

真空爐

發布時間:2020-08-31 16:53:12

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氮化鋁粉體製備真空爐

一、主要用途
該真空爐是用石墨作發熱元件的真空電阻爐,主要應用於氮化鋁粉體製備等在真空或反應氣氛中高溫燒結,也可以供金屬材料在高真空條件下的高溫熱處理或貴金屬材料的除氣處理。
該設備的結構設計先進合理,設計及製造符合相應的國家及行業標準和規範,能夠滿足用戶的使用要求。其配套產品和元器件具有國際先進水平,能夠適應長期、穩定、安全、可靠的生產需求。設備的節能效果好。使用、操作、維修方便簡捷,造型美觀,安全可靠,售後服務優良。
二、主要技術參數

型號

VHSgr-40/40/120-2000

VHSgr-50/50/150-2000

VHSgr-80/80/240-2000

設備形式

臥式

裝料方式

側裝料

加熱方式

石墨棒加熱

極限真空度

5Pa(空爐、冷態、經淨化)

壓升率

≤2.0Pa/h(空爐、冷態)

有效熱區尺寸(寬xx長)

400x400x1200

500x500x1500

800x800x2400

最高溫度

2000

2000

2000

常用溫度

1850

1850

1850

加熱功率

150KW

240KW

400KW

控溫精度

±1

測溫傳感器

鎢錸熱電偶

可通氣氛

氮氣

控製係統

PLC+HMI

水壓要求

水壓0.2MPa,水流量20~50m3/小時

外形尺寸

2500x3500x2000mm(xx)

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